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硅片表面的几种大宝娱乐app处理方法和步骤
浏览: 发布日期:2022-01-07

硅片表面的几种处理方法和步骤

一、 硅片的预处理:

(1)硅片切割:根据所需大小,用玻璃刀进行硅片的切割。操作时需要在洁净的环境中,并带一次性手套,以避免污染硅片。先在桌面平铺一张干净的称量纸,用镊子小心夹持硅片的边缘,将其正面朝上(光亮面)放于称量纸上;再取一张干净的称量纸覆盖于硅片表面,留出硅片上需要切割的部分;将切割专用的直尺放于覆盖硅片的纸上,用手轻轻压住直尺;直尺应不超过待切割侧的纸面,以防止直尺污染硅片;切割时玻璃刀沿直尺稍用力平行滑动,使用的力量以能在硅片表面形成一清晰的划痕,但不至于将硅片划开为度;如对大块硅片进行横纵向多次切割,即可在硅片表面形成网格;将硅片包裹于称量纸内,(避免手套和硅片表面直接接触)用手沿网格线轻轻掰动即可形成大小合适的小型硅片;将切割好的硅片用镊子小心夹持,放于干净的塑料平皿内,正面朝上,并用封口膜将平皿封好,放于干净处保存待用。

注意:整块硅片取出后严禁放回硅片盒,应另行保存。

二、 硅基片表面的羟基化处理

(2) 在通风橱内,将切割好的小型硅片置于干净的羟化烧杯(专用)中,将其正面朝上,用去离子水清洗3次,清洗时稍用力,使硅片能够在烧杯中旋转起来,以减少硅片之间的摩擦碰撞;将水倒净,立即用移液管(过氧化氢专用)往烧杯中加入5ml 过氧化氢(H2O2),然后用移液管(浓硫酸专用)加入15ml 浓硫酸(H2SO4),在摇床上缓慢振荡或静置30分钟使之充分反应,此反应可使表面羟基化。倒掉上步反应的液体,用去离子水清洗3次。清洗时稍用力,使硅片能够在烧杯中旋转起来,以减少硅片之间的摩擦碰撞;然后将烧杯口

向下倾斜,缓慢转动烧杯,使烧杯壁上的浓硫酸能被洗去。清洗结束后,用大量水保存硅片,并需要使硅片的正面保持朝上。

二、硅基片表面的氨基化处理

(3) 取出氨化烧杯(专用),先用无水乙醇清洗2次,然后倒入20ml 无水乙醇,将步骤

(2)反应后的获得的羟基化硅片转移到氨化烧杯中,用无水乙醇清洗3次。清洗时同步骤(2),使硅片处于乙醇环境中;清洗完成后倒掉乙醇,迅速加入3-氨基丙基三乙氧基硅烷(APTES )和无水乙醇的混合液(体积比为1:15),或者先加15ml 无水乙醇,然后用移液管加1ml APTES,摇床上振摇反应2 h。该反应结束后可以使硅片表面氨基化。

三、硅基片的羧基化处理

(4) 倒掉上步反应液体,用无水乙醇清洗3次,清洗过程同上。清洗完后把硅片转移到羧基化烧杯(专用)中,烧杯中含琥珀酸酐的无水乙醇饱和溶液,摇床振摇反应3 h以上或者过夜,该反应结束后可使硅片表面羧基化。将反应结束后的硅片用无水乙醇清洗后,保存于大量无水乙醇中待用。 注意:要保持各专用烧杯的清洁,处理过程中的硫酸要收集到废液瓶中,并做好标记。

经过上述步骤处理后的硅片表面已修饰有羧基官能团,再经过NHS/EDC(简称NE )活化后可与蛋白配基分子的氨基形成共价连接。

四、硅基片的甲基化处理

上接步骤(2),接下来取出甲基化烧杯(专用),用三氯乙烯清洗,以形成三氯乙烯环境,将羟基化后的硅片用镊子小心夹持,放入疏水烧杯中,正面朝上;用三氯乙烯清洗3次,

清洗过程同上。倒掉液体,将20ml 三氯乙烯和3ml 二氯二甲基硅烷在专用的烧杯中混合均匀,再倒入盛有硅片的疏水烧杯中,反应5分钟;用无水乙醇清洗,再用三氯乙烯清洗;如此循环反复3次,将硅片用镊子小心夹持取出,放在盛有大量无水乙醇溶液的容器中,用封口膜封存。 注意:挥发性试剂的操作都必须在通风橱内进行。粘有硅烷的移液管和烧杯应立即用无水乙醇清洗。

五、硅基片的醛基化处理

上接步骤(3),倒掉反应液体,用无水乙醇清洗3次,以除去氨基硅烷;再用去离子水清洗3次,以除去无水乙醇,以避免其与醛基反应;然后用PBS 溶液清洗2次,以形成PBS 环境,倒掉PBS 溶液,将硅片亮面朝上,加入戊二醛和PBS 的混合溶液(15 ml PBS,

1.5 ml 50%戊二醛,体积比为1:10),摇床振摇反应1 h。此反应结束后可使硅基片形成醛基化。倒掉反应液体,用大量 PBS清洗3次,然后将醛基化的硅片保存于PBS 溶液中,以待下一步实验使用。